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打破日美垄断国产ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

7nm 光刻胶日本美国

打破日美垄断国产ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

作为半导体卡脖子的技术之一，很多人只知道光刻机，却不知道光刻胶的重要性，这个市场也是被日本及美国公司垄断，TOP5厂商占了全球85%的份额。 ...

风君子
业界
2020-05-22
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