中微公司：第 2000 个 CCP 刻蚀设备反应台付运

8 月 22 日消息，今日，中微公司宣布，公司的电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第 2000 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。

中微公司指出，本批次运付的 CCP 刻蚀设备反应台有 Primo AD-RIE 及 Primo HD-RIE 系列产品。其中，Primo AD-RIE-e 是中微第二代电介质刻蚀产品 Primo AD-RIE 的子产品，将应用于 5 纳米及以下的前段和中段的掩膜层刻蚀的开发及量产。

该交付批次的 Primo HD-RIE 则具有六个单反应台腔体的系统，定位于为中高深宽比刻蚀提供综合解决方案。中微公司表示，Primo HD-RIE 在 3D-NAND 及 DRAM 中高深宽比沟槽及深孔刻蚀上表现优异，在一些关键制程上已实现量产。

了解到，数据显示，中微公司 2022 年上半年新签订单金额同比增长 61.83% 达到 30.57 亿元，营业收入同比增长了 47.30% 达到 19.72 亿元，扣非归母净利润同比增长了 615.26% 达到 4.41 亿元，其中刻蚀设备收入为 12.99 亿元，较去年同期增长约 51.48%。