12 月 9 日消息，日本 DNP（大日本印刷）当地时间今日宣布成功开发出线宽仅 10nm 的 NIL 纳米压印图案化模板，支持 1.4nm 级逻辑半导体以及 NAND 闪存的制造。 DNP 在 NI … Continue reading 日本 DNP 开发 1.4nm 级 NIL 纳米压印图案化模板，目标 2027 年量产
12 月 9 日消息，日本 DNP（大日本印刷）当地时间今日宣布成功开发出线宽仅 10nm 的 NIL 纳米压印图案化模板，支持 1.4nm 级逻辑半导体以及 NAND 闪存的制造。 DNP 在 NI … Continue reading 日本 DNP 开发 1.4nm 级 NIL 纳米压印图案化模板，目标 2027 年量产