快科技5月17日消息,原本已经落后的日本半导体制造行业近年来加快了追赶速度,去年8月份索尼、丰田等8家企业出资成立了Rapidus,计划2025年试产2nm工艺,而且很快就筹备了EUV光刻机。 ...
光刻胶中国能生产,不过现在光刻胶不是很普遍,所以了解到的也很少。光刻胶作为新的半导体的一个配件,制作的难度也是可想而知的。 ...
光刻机是一个制造芯片的机器,芯片上的图形模板(微电路)需要用机器来雕刻。 ...
快科技4月10日消息,南大广电在互动平台表示,该公司自主研发的高端ArF光刻胶已经通过了客户认证,并少量销售。 ...
努比亚手机今日官宣,将推出努比亚Z50 Ultra星空典藏版。 据介绍,新机采用全球唯一环保玻璃立体蚀刻工艺,配合纳米级光刻纹理AG玻璃材质,带来科技与艺术的碰撞。 ...
感谢网友 肖战割割 的线索投递! 2 月 21 日消息,在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域,制造工艺日趋复杂,半导体元器件制造厂商为了制造出高精度的半导体元器件,需要提高套刻的精度,因 ...
光罩薄膜是极紫外 EUV) 光刻工艺中的关键部件,指的是在光罩上展开一层薄膜,然后机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路,以免光罩受空气中微尘或挥发性气体的污染,减少光掩模的损坏。 ...
荷兰ASML(阿斯麦)正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备。 ...
今日,联想YOGA向大家展示了YOGA Pro 14s王一博定制版笔记本,该机将于今晚18:30的联想消费生态星光直播夜限量发售。 ...
在EUV光刻工艺上,Intel此前承认他们过去翻错了,让台积电、三星抢先了,毕竟Intel是最早研发EUV工艺的半导体公司之一,现在Intel可以追上来了,今年底就首次使用EUV的Intel 4工艺就 ...
集微网消息,上海集成电路材料研究院官网日前刊文,回顾了该院建院两年来取得的科研与产业化成果。 ...
7 月 16 日消息,据东方晶源发布,近日,东方晶源微电子科技(北京)有限公司(以下简称“东方晶源”)发布首款基于云端的 EDA 计算光刻平台 ——AeroHPO 全流程协同优化系统,成为国产 ED ...
7 月 2 日消息,近日长鑫存储技术有限公司公开多项专利,其中一条名称为“半导体光刻补偿方法”,公开号为 CN114675505A。 ...
据路透社报道,ASML 正在寻找其他氖气供应来源,以防俄罗斯和乌克兰冲突导致供应中断。 ...
【文/观察者网 吕栋】 当地时间2月9日,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)在2021年财报中宣称,中国企业东方晶源(Dong Fang JingYuan Electron,DFJY)正在中国积极销售可 ...

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