每经AI快讯，12月2日，捷佳伟创在互动平台表示，公司持续拓展半导体及第三代半导体领域，目前公司的半导体清洗设备、碳化硅高温热处理工艺设备都已出货给客户，并且公司在持续研发其他半导体及泛半导体相关设备 … Continue reading 捷佳伟创：半导体清洗设备、碳化硅高温热处理工艺设备都已出货给客户
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捷佳伟创：半导体清洗设备、碳化硅高温热处理工艺设备都已出货给客户
财联社12月2日电，捷佳伟创在互动平台表示，公司持续拓展半导体及第三代半导体领域，目前公司的半导体清洗设备、碳化硅高温热处理工艺设备都已出货给客户，并且公司在持续研发其他半导体及泛半导体相关设备。
科研人员研发“闪速退火”工艺，一秒“炼”就晶圆级高性能储能薄膜
近日，中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家研究中心胡卫进研究员团队携手合作者，开发出一种热处理升降温速率可达每秒1000摄氏度的“闪速退火”工艺，成功制备出晶圆级高性能储能薄膜。相关成果于11月15日 … Continue reading 科研人员研发“闪速退火”工艺，一秒“炼”就晶圆级高性能储能薄膜
科研人员研发“闪速退火”工艺 一秒“炼”就晶圆级高性能储能薄膜
财联社11月15日电，近日，中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家研究中心胡卫进研究员团队携手合作者，开发出一种热处理升降温速率可达每秒1000摄氏度的“闪速退火”工艺，成功制备出晶圆级高性能储能薄膜。 … Continue reading 科研人员研发“闪速退火”工艺 一秒“炼”就晶圆级高性能储能薄膜