财联社4月23日电,台积电副共同营运长张晓强表示,公司目前没有采用阿斯麦最新高数值孔径极紫外光刻机(High-NA EUV)的计划,这类设备单台价格超过3.5亿欧元。他还宣布,公司最先进的A13芯片将 … Continue reading 台积电高管:暂不采用阿斯麦最新光刻机,“非常、非常贵”
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台积电高管:暂不采用阿斯麦最新光刻机,“非常、非常贵”
4月22日,台积电副共同营运长张晓强表示,公司目前没有采用阿斯麦最新高数值孔径极紫外光刻机(High-NA EUV)的计划,这类设备单台价格超过3.5亿欧元。他还宣布,公司最先进的A13芯片将于202 … Continue reading 台积电高管:暂不采用阿斯麦最新光刻机,“非常、非常贵”
SK海力士将斥资近80亿美元采购ASML极紫外光刻设备
SK海力士将斥资近80亿美元采购ASML极紫外光刻设备
3月24日,据报道,SK海力士表示,为准备新产品的大规模量产,公司将采购价值11.95万亿韩元(约合79.7亿美元)的ASML极紫外光刻设备。SK海力士在监管文件中称,将在2027年12月31日前完成 … Continue reading SK海力士将斥资近80亿美元采购ASML极紫外光刻设备
阿斯麦公布EUV光源技术突破,到2030年芯片产能有望提升50%
据报道,当地时间2月23日,阿斯麦研究人员表示,他们已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法。通过将EUV(极紫外光刻)光源功率提升至1000瓦,有望在2030年前使芯片产量提高50%。
阿斯麦:预计到2030年极紫外光刻机的每小时晶圆产量可增加50%
财联社2月23日电,阿斯麦表示,通过提升功率,可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000瓦特,预计到2030年极紫外光刻机的每小时晶圆产量可增加50%。
