据报道,当地时间2月23日,阿斯麦研究人员表示,他们已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法。通过将EUV(极紫外光刻)光源功率提升至1000瓦,有望在2030年前使芯片产量提高50%。
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阿斯麦:预计到2030年极紫外光刻机的每小时晶圆产量可增加50%
财联社2月23日电,阿斯麦表示,通过提升功率,可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000瓦特,预计到2030年极紫外光刻机的每小时晶圆产量可增加50%。
据报道,当地时间2月23日,阿斯麦研究人员表示,他们已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法。通过将EUV(极紫外光刻)光源功率提升至1000瓦,有望在2030年前使芯片产量提高50%。
财联社2月23日电,阿斯麦表示,通过提升功率,可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000瓦特,预计到2030年极紫外光刻机的每小时晶圆产量可增加50%。