洪镭光学:半导体掩模版光刻机与TGV玻璃基板光刻机完成订单交付

财联社11月19日电,近日,洪田股份旗下洪镭光学自主研发的应用于半导体掩模版领域的直写光刻机与TGV玻璃基板直写光刻机顺利下线,完成打包装运并发往订单需求客户。此次下线并交付的掩模版直写光刻机,是一台 … Continue reading 洪镭光学:半导体掩模版光刻机与TGV玻璃基板光刻机完成订单交付

跃昉科技自研高性能RISC-V边缘计算处理器量产应用数十万颗

11月14日,2025年“中国芯”集成电路产业促进大会暨第二十届“中国芯”优秀产品征集结果发布仪式在珠海举办。界面新闻会上获悉,广东跃昉科技有限公司自主研发的NB2芯片及相关产品已在智慧能源、智慧物流 … Continue reading 跃昉科技自研高性能RISC-V边缘计算处理器量产应用数十万颗

第三代半导体突破供电瓶颈 有望在AI数据中心领域广泛应用

机构指出,为支持高功耗高性能AI计算日益增长的需求,碳化硅衬底逐渐被用于AI数据中心电源供应单元的交直流转换阶段,以降低能耗、改进散热解决方案并提升服务器的功率密度,打开了碳化硅产品的应用领域和天花板 … Continue reading 第三代半导体突破供电瓶颈 有望在AI数据中心领域广泛应用

试图颠覆半导体产业链的高中毕业生 完成1亿美元创业融资

财联社10月29日讯(编辑 史正丞)周二的最新消息显示,在半导体产业的嗤笑和嘲讽声中,一家名为Substrate的旧金山光刻机创业公司完成超过1亿美元的融资,对应估值超过10亿美元。 这家公司引发外界 … Continue reading 试图颠覆半导体产业链的高中毕业生 完成1亿美元创业融资

最新!我国芯片领域取得新突破

光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。 据科技日报,近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的 … Continue reading 最新!我国芯片领域取得新突破

微导纳米:公司是行业内率先为新型存储提供薄膜沉积技术支持的设备厂商之一

财联社10月23日电,微导纳米在互动平台表示,尊敬的投资者您好。自成立以来,公司一直坚持自主创新,助力国内半导体产业的发展。公司是国内首家成功将量产型High-k原子层沉积设备(ALD)应用于集成电路 … Continue reading 微导纳米:公司是行业内率先为新型存储提供薄膜沉积技术支持的设备厂商之一