标签： 光刻机

台积电公布最新技术路线 因成本问题不再购买阿斯麦下一代光刻机

财联社4月23日讯（编辑 马兰）台积电周三发布了其A13芯片技术，计划在不升级到阿斯麦最新高数值孔径极紫外光刻设备的情况下，制造更小、更快的处理器。 阿斯麦最新的高数值孔径极紫外光刻机单价超过4.1亿 … Continue reading 台积电公布最新技术路线 因成本问题不再购买阿斯麦下一代光刻机

ASML一季度超预期，明年EUV光刻机出货量将提升至80台

界面新闻记者 | 徐美慧界面新闻编辑 | 文姝琪 北京时间4月15日晚间，阿斯麦（ASML）高层在财报电话会中释放了明确的行业看涨信号。 当日，ASML发布2026年第一季度财报。2026年第一季度， … Continue reading ASML一季度超预期，明年EUV光刻机出货量将提升至80台

EUV、DUV光刻机需求齐涨，ASML首席执行官傅恪礼：终端市场供应紧张，先进存储和先进逻辑芯片需求旺盛

每经记者：朱成祥 每经编辑：廖丹 在AI特别是存储旺盛的需求之下，晶圆厂不仅抢购EUV（极紫外）光刻机，甚至开始抢购DUV（深紫外）光刻机。 近日，存储芯片龙头SK海力士宣布，将在2027年12月31 … Continue reading EUV、DUV光刻机需求齐涨，ASML首席执行官傅恪礼：终端市场供应紧张，先进存储和先进逻辑芯片需求旺盛

浙江征求意见：晶圆制造领域加速突破3-7nm制程 发展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等

财联社1月12日电，浙江省经信厅牵头编制了《浙江省“十五五”新型工业化规划（征求意见稿）》，现就文稿内容及公平竞争性向社会公开征求意见。征求意见指出，芯片设计与制造领域，突破低功耗芯片设计，发展高端通 … Continue reading 浙江征求意见：晶圆制造领域加速突破3-7nm制程 发展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等

绕开光刻机“卡脖子”，中国新型芯片问世！

每经记者：张蕊 每经编辑：廖丹 当AI（人工智能）时代算力集群规模正逐步从万卡向十万卡、百万卡甚至千万卡升级时，一支中国团队悄然另辟蹊径。 2025年10月，北京大学人工智能研究院/集成电路学院双聘助 … Continue reading 绕开光刻机“卡脖子”，中国新型芯片问世！

绕开光刻机“卡脖子”，中国新型芯片问世！专访北大孙仲：支撑AI训练和具身智能，可在28纳米及以上成熟工艺量产

每经记者：张蕊 每经编辑：廖丹 当AI时代算力集群规模正逐步从万卡向十万卡、百万卡甚至千万卡升级时，一支中国团队悄然另辟蹊径。 今年10月，北京大学人工智能研究院/集成电路学院双聘助理教授孙仲与北京大 … Continue reading 绕开光刻机“卡脖子”，中国新型芯片问世！专访北大孙仲：支撑AI训练和具身智能，可在28纳米及以上成熟工艺量产